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紫外光催化氧化設備用的是一項氧化技術

更新時間：2018-12-25 點擊次數：2498

　　紫外光催化氧化設備運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能），設備風阻極低＜50pa,可節約大量排風動力能耗。UV光催化氧化設備凈化裝置部分粗過濾采用高性能過濾材料,阻力小。UV光催化氧化廢氣除臭設備對廢氣進行粗過濾,可去除廢氣中的懸浮顆粒和小霧滴。濾網強度好、耐腐蝕、清洗方便、清洗后可重復使用、過濾阻力低。

　　紫外光催化氧化設備光化學及光催化氧化法是目前研究較多的一項氧化技術。所謂光催化反應，就是在光的作用下進行的化學反應。光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射，受激產生分子激發態，然后會發生化學反應生成新的物質，或者變成引發熱反應的中間化學產物。光化學反應的活化能來源于光子的能量，在太陽能的利用中光電轉化以及光化學轉化一直是十分活躍的研究領域。隨著納米技術的興起和光催化技術在環境保護、衛生保健、有機合成等方面應用研究的發展迅速，納米量級的光催化劑的研究，已經成為上活躍的研究領域之一。

　　UV光催化氧化設備的適用廢氣種類：

　　除臭設備適用于：丙酮、丁酮、乙酸乙酯、VOC、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯系物、苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴、酚、硫化氫、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基等臭氣和廢氣。

　　紫外光催化除臭的技術特性

　　高能UV與活性氧的協同作用下，對污染物處理能力強，范圍廣；

　　設備占地面積小、維護保養便捷、運行費用低；

　　紫外光輸出強，185nm輻射強度占紫外總輻射量的5~8%；

　　設備運行阻力低，機殼可采用SUS304制造，使用壽命長。

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